Vermessung von Sub-Mikrometer Geometrien
Bei der Vermessung von Strukturen im Sub-Mikrometer-Bereich bieten sich bisher wenige, relevante Alternativen zur Rastersonden- oder Elektronenmikroskopie. Beide Verfahren sind zeit- und arbeitsintensiv und erfordern geschulte Anwender zur Einrichtung der Messungen. Nachteile dieser Messverfahren sind, dass Oberflächenmerkmale durch Scherkräfte im Kontaktmodus verfälscht werden können, die Messnadel unausgeglichen reagiert oder, dass Messungen nicht zerstörungsfrei möglich sind.
Die Weißlichtinterferometrie erlaubt die Gewinnung von 3D-Informationen mit Höhenauflösungen sogar unterhalb eines Nanometers. Jedoch ist die laterale Auflösung von Interferometern für die Messung von Strukturen unterhalb eines Mikrometers nicht ausreichend und begrenzt auf 0,20 bis 0,40 µm, da mit weißem Licht gearbeitet wird. Anders als bei Triangulationsverfahren ist die Messgenauigkeit der Weißlichtinterferometrie nicht von der Entfernung des Messobjektes abhängig, was dieses Messverfahren für verschiedenste Objekte und Oberflächen, wie tiefe Bohrungen oder transparente Flächen, geeignet macht. Beim fertigungsnahen Messen kann es jedoch zu Schwierigkeiten kommen, da das Verfahren sehr erschütterungsempfindlich ist.
Eine weitere Möglichkeit zur Gewinnung von 3D-Informationen ist die konfokale 3D-Mikroskopie. Die konfokale Ausblendung defokussierter Punkte erlaubt neben der Gewinnung hochpräziser Höheninformationen auch laterale Auflösungen unterhalb derer gewöhnlicher Auf- oder Durchlichtmikroskope. Wie jedes Messverfahren ist die konfokale Technik ebenfalls nicht frei von Artefakten. Bei rauen und feinstrukturierten Oberflächen erweist sie sich jedoch als robuster gegenüber anderen Verfahren, im Vergleich zur Rasterkraftmikroskopie (AFM) können große Bereiche mit hoher Geschwindigkeit erfasst werden. Die konfokale 3D-Mikroskopie, basierend auf bisher bekannten Methoden, scheitert jedoch bei der Messung dünnster, transparenter Schichten im Bereich eines Mikrometers und darunter an der Trennung der einzelnen Oberflächen voneinander.
Obligatorisch für die Messung mit höchsten Auflösungen ist die Konstruktion von Mikroskopen mit beugungsbegrenzter Strahlführung und die Verwendung von Objektiven mit hoher numerischer Apertur. Während dies bei verhältnismäßig langsameren Laser-Scanning-Systemen noch leicht realisiert werden kann, führt die als Lochblende verwendete, rotierende Scheibe bei Spinning-Disc-Konfokalmikroskopen zu Abbildungsfehlern, also zu Abweichungen von der optimalen Abbildung durch das optische System, die eine Messung von Mikrogeometrien unmöglich machen. Die Rolle von Abbildungsfehlern darf nicht unterschätzt werden, nur bei qualitativ sehr hochwertigen Optiken ist der Einfluss dieser Fehler physikalisch bedingt gering. Mit dem Einsatz von Lochblenden ist zwar ein schnelles Abrastern garantiert, oftmals geht jedoch ein Großteil der Beleuchtung an der Scheibe verloren. Enthalten die zu untersuchenden Proben zudem transparente Schichten, mit Dicken im Bereich der Halbwertsbreite des Konfokalsignals, scheint die Gewinnung zuverlässiger Höheninformationen nahezu unmöglich.
In der vorliegenden Studie von Solarius wurde eine Inspektion von sog. Copper-Pillars vorgenommen. Diese mikroskopischen Kupfersäulen bestehen aus einem Zylinder aus Kupfer und einer kleinen Kappe aus Lötzinn und finden in der Chipherstellung Verwendung. Sie bilden in einer transparenten Matrix eingebettete Vertiefungen von wenigen zehn Nanometern mit Durchmessern und Abständen von deutlich unterhalb eines Mikrometers. Sie liegen somit bezüglich der lateralen Dimension in einem absoluten Grenzbereich der Mikroskopie.
Die Aufnahme der Bilddaten geschieht in bekannter Weise. Das Messfeld ist mit über 7.500 µm² verhältnismäßig groß, sodass mehr als 3.000 der zu untersuchenden Strukturen gleichzeitig erfasst werden können. Über eine komplexe Auswertung der Konfokalkurven wird jeder X-Y-Koordinate ein oder – in Schichtsystemen – mehrere Höhenwerte zugewiesen. An dieser Stelle setzt Solarius an.
In einer Konfokalkurve sind nicht nur Höhen- und Reflexionsinformationen eines Bildpunktes enthalten, sondern auch umfangreiche Information über die Abbildungsfehler des verwendeten Messsystems. Diese können mittels einer Algorithmik mathematisch bestimmt und sodann von der Berechnung der Oberflächentopographie ausgeschlossen werden. Auf diese Weise werden Objekte selbst mit kleinsten Strukturen mit hoher Wiederholgenauigkeit erfasst und vermessen. Die Tiefen-Durchkontaktierungen (Vias) konnten dabei mit einer Wiederholbarkeit von nur 3,7 nm genau berechnet werden. Die Bestimmung der Durchmesser ergab eine Wiederholgenauigkeit von gerade einmal 7 nm, was weniger als 1 % der gemessenen Größe entspricht.
Über diese neuartige Auswertung der ermittelten Konfokaldaten ist es Solarius möglich, auch bei Mikrogeometrien und dünnsten, transparenten Schichten realitätsgetreue 3D-Abbildungen von Oberflächen zu erstellen. Damit stößt die vorgestellte 3D-Messmethode in eine konkurrenzlose Nische vor und übertrifft konventionell scannende Untersuchungsmethoden im Hinblick auf Messgeschwindigkeit, Flächenakquisitionsrate und Qualität der optischen Messdaten bei weitem.
Die hohe Qualität der Sensordaten in Kombination mit hochentwickelter Signalverarbeitung und intelligenten Bildverarbeitungsalgorithmen ermöglicht es, den Übergangsbereich der konfokalen Metrologie in Richtung der AFM Systeme voranzutreiben. Die Inline Überwachung von selbstausrichtenden Strukturen ist ein guter Beweis für den Vorsprung der Solarius Technologie in der konfokalen 3D Bildgebung. Im Bild rechts sind selbstausrichtende Strukturen mit einer Linienfrequenz von 2 µm und einer Spacertiefe von 3 µm zu sehen. Solche realen Strukturen können mit Solarius Konfokalmikroskopie Tools mit einer Präzision und Genauigkeit von unter 1% der Strukturgröße gemessen werden. Das Verfahren unterstützt die Bewertung von Linien- und Raumstrukturen während der verschiedenen Prozessschritte. Die Abmessungen können sowohl nach der Lithographie im entwickelten Film als auch nach dem Ätzen in Silizium zuverlässig bestimmt werden.
Unterstützt durch die Solarius SIMP Front-End Tools und die Solarius SolarCore Software Plattform liefern die konfokalen Mikroskope schnelle, robuste und zuverlässige Informationen zur Prozesskontrolle. Die SIMP Tools sind in einer kompakten und platzsparenden Version für bis zu 200 Millimeter Wafer sowie in einer 200/300 Millimeter Konfiguration mit voller 300 Millimeter SECS/GEM Integration und OHT/AGV Unterstützung, basierend auf dem SEMI E84 Protokoll, erhältlich. Alle Geräte sind mit der modernen SEMI konformen SolarScanSC Benutzeroberfläche ausgestattet.